우리는 현장에서 집중적으로 일하고 있습니다 RF 스퍼터링 구리 스퍼터링 대상, 반도체 구리 스퍼터링 목표, 태양 전지 구리 스퍼터링 목표 , 헌신의 정신을 고수하고 끊임없이 혁신. 우리는 혁신 노력을 늘리고 제품 브랜드의 확장 및 홍보를 촉진하며 새로운 시리즈의 지속적으로 개발할 것입니다.진공 증착 구리 스퍼터링 대상 . 당사의 모든 직원은 높은 수준의 전문성, 엄격한 품질 관리 개념, 과학적 관리 방법 및시기 적절하고 사려 깊은 서비스를 제공하는 더 좋고보다 완벽한 제품을 제공 할 것입니다. 사회의 신뢰와 시장의 인정은 기업 자격의 기본 상징 일뿐 만 아니라 기업의 기초이기도합니다. 우리는 항상 엄격한 과학적 개념, 진지하고 현실적인 업무 태도를 준수하고 고객과 더 나은 미래를 만들 것입니다. 우리는 기업의 중요성이 사회에 혜택을주는 것이라고 믿으며, 이것이 우리의 문화적 이상입니다. 우리는 시장의 이점을 얻을 수 있도록 고품질 제품을 제공하기를 기대합니다. 우리는 기업 프로세스의 효율성과 효율성을 향상시키고 기업의 업무 품질을 지속적으로 개선 할 수있는 기회를 계속 적극적으로 추구하고 있습니다.
  • 평면 구리 대상
    평면 구리 표적은 얇은 구리 필름을 기판에 퇴적하기 위해 물리적 증기 증착 (PVD) 공정에 사용되는 평평한 디스크 형 또는 직사각형 스퍼터링 표적이며, 고 에너지 입자의 폭격하에 균일하고 고품질의 박막을 제조하는 데 결정적인 고 에너지 입자의 충격 하에서 원자를 안정적으로 방출 할 수있다. Fabmann은 반도체, 화학 증기 증착 (CVD) 및 광 응용
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  • 로타리 구리 목표
    회전식 또는 원통형 스퍼터링 대상으로도 알려진 회전 구리 표적은 스퍼터링 공정의 균일 성과 효율성을 향상시키기 위해 Magnetron Sputtering과 같은 특정 유형의 스퍼터링 시스템에서 사용됩니다. Fabmann의 로타리 스퍼터링 목표는 정밀 CNC 가공, 효과적인 슬리브 본딩 및 전통적인 기존 캐스팅 솔루션을 포함한 다양한 고급 제조 기술에 의해
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