미래를 기대하면서, 우리 회사는 "안정적인 운영 및 우수성 추구"라는 개발 개념을 준수하며, 개발 경로에 계속 전념 할 것입니다. 양성자 Linac, 도매 구리 스퍼터링 대상, 음극 스퍼터링을위한 구리 스퍼터링 대상 전문화. 우리 회사는 a를 만들기 위해 모든 노력을 기울일 것입니다혈장 증착 구리 스퍼터링 표적 기술 수준이 높고 제품 품질이 우수하며 우수한 인력 품질을 제공합니다. 우리는 표준 관리, 절묘한 건설 기술을 기초로 준수하며, 고객에게 서비스를 제공하며 고객에게 다양한 친밀한 서비스를 제공합니다. 우리 회사는 새로운 얼굴과 노력하는 태도로 새로운 도전에 직면하여 더 나은 새로운 제품을 생산하고 전 세계 고객에게 서비스를 제공 할 수있는 더 나은 서비스를 제공합니다. 전문 수준과 성숙한 기술을 통해 고객으로부터 칭찬을 받았으며 비즈니스는 지속적으로 확장되었습니다. 고품질의 제품 및 서비스, 좋은 평판 및 평판, 고객 호의 및 지원은 빠른 성장의 원천입니다. 우리 회사는 혁신과 창의성에 대한 명성을 얻었습니다. 우리는 중국의 대외 무역 산업의 주요 회사입니다.
  • 로타리 구리 목표
    회전식 또는 원통형 스퍼터링 대상으로도 알려진 회전 구리 표적은 스퍼터링 공정의 균일 성과 효율성을 향상시키기 위해 Magnetron Sputtering과 같은 특정 유형의 스퍼터링 시스템에서 사용됩니다. Fabmann의 로타리 스퍼터링 목표는 정밀 CNC 가공, 효과적인 슬리브 본딩 및 전통적인 기존 캐스팅 솔루션을 포함한 다양한 고급 제조 기술에 의해
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  • 평면 구리 대상
    평면 구리 표적은 얇은 구리 필름을 기판에 퇴적하기 위해 물리적 증기 증착 (PVD) 공정에 사용되는 평평한 디스크 형 또는 직사각형 스퍼터링 표적이며, 고 에너지 입자의 폭격하에 균일하고 고품질의 박막을 제조하는 데 결정적인 고 에너지 입자의 충격 하에서 원자를 안정적으로 방출 할 수있다. Fabmann은 반도체, 화학 증기 증착 (CVD) 및 광 응용
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