아무도 당신에게 더 나은 것과 더 싸게 제공 할 수 없다고 말하는 것은 과장이 아닙니다. 중공 전기 도체, 음극 스퍼터링 구리 스퍼터링 대상, 맞춤형 구리 튜브 또는 서비스. 우리는 고객 만족을 서비스 작업의 중심으로 만들고 일류를 제공합니다.구리 스퍼터링 목표의 적용 그리고 인간 서비스. 우리는 독특한 기업 문화를 구축하는 것이 경영 수준을 향상시키고, 회사 가치를 증진시키고, 핵심 경쟁력 향상 및 과학 개발을 촉진하는 데 큰 의미가 있다고 생각합니다. 자신감을 가지고 살 수 있습니다. 우리는 원래 의도를 잊지 않고 사명을 염두에두고 새로운 지평을 깨고 새로운 공연을 보여줄 수 있다고 믿습니다. 우리는 고객이 신뢰하는 제품 제조업체가되기 위해 열심히 노력하고 있습니다. 우리는 많은 과학적 연구 단위와 장기적인 협력 관계를 구축했으며 신제품 개발에 많은 돈을 투자했으며 일부 결과를 달성했습니다. 우리의 회사 문화는 다양성, 포용 및 동등한 기회에 기반을두고 있습니다.
  • 평면 구리 대상
    평면 구리 표적은 얇은 구리 필름을 기판에 퇴적하기 위해 물리적 증기 증착 (PVD) 공정에 사용되는 평평한 디스크 형 또는 직사각형 스퍼터링 표적이며, 고 에너지 입자의 폭격하에 균일하고 고품질의 박막을 제조하는 데 결정적인 고 에너지 입자의 충격 하에서 원자를 안정적으로 방출 할 수있다. Fabmann은 반도체, 화학 증기 증착 (CVD) 및 광 응용
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  • 로타리 구리 목표
    회전식 또는 원통형 스퍼터링 대상으로도 알려진 회전 구리 표적은 스퍼터링 공정의 균일 성과 효율성을 향상시키기 위해 Magnetron Sputtering과 같은 특정 유형의 스퍼터링 시스템에서 사용됩니다. Fabmann의 로타리 스퍼터링 목표는 정밀 CNC 가공, 효과적인 슬리브 본딩 및 전통적인 기존 캐스팅 솔루션을 포함한 다양한 고급 제조 기술에 의해
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Darrell Santiago star star star star star
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