회사는 개발 및 적용에 매우 강력한 기술력을 가지고 있습니다. 구리 스퍼터링 목표의 밀도, 맞춤형 구리 도체, 구리 스퍼터링 소스 많은 대학들과 함께 많은 새로운 기술 개발 및 협력 프로젝트가 있습니다. 우리는 시장 요구에주의를 기울이고 지속적으로 설계하고 최적화합니다.구리 스퍼터링 대상 사양 그리고 이러한 요구를 충족시키기위한 전체 생산 프로세스조차도. 이 회사는 항상 "사람 지향적, 품질 지향적"의 기업 정신을 고수합니다. 기업 문화를 지속적으로 개선하고 새로운 제품을 계속 만들고 있습니다. 우리 회사는 글로벌 경쟁에서 국제 비전과 예측으로 속도로 브랜드를 달성합니다. 우리 회사는 혁신에 중점을두고 있으며 고객에게 제공 할 새롭고 흥미로운 제품을 끊임없이 찾습니다. 우리 회사는 번거롭고 효율적인 고객 서비스를 제공하기 위해 노력하고 있습니다. 우리 팀은 전체 거래 과정에서 고객에게 탁월한 지원을 제공하기 위해 최선을 다하고 있습니다. 우리는 고객의 요구를 최우선으로하고 완벽하고 번거롭지 않은 경험을 제공하기 위해 최선을 다하고 있습니다.
  • 평면 구리 대상
    평면 구리 표적은 얇은 구리 필름을 기판에 퇴적하기 위해 물리적 증기 증착 (PVD) 공정에 사용되는 평평한 디스크 형 또는 직사각형 스퍼터링 표적이며, 고 에너지 입자의 폭격하에 균일하고 고품질의 박막을 제조하는 데 결정적인 고 에너지 입자의 충격 하에서 원자를 안정적으로 방출 할 수있다. Fabmann은 반도체, 화학 증기 증착 (CVD) 및 광 응용
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  • 로타리 구리 목표
    회전식 또는 원통형 스퍼터링 대상으로도 알려진 회전 구리 표적은 스퍼터링 공정의 균일 성과 효율성을 향상시키기 위해 Magnetron Sputtering과 같은 특정 유형의 스퍼터링 시스템에서 사용됩니다. Fabmann의 로타리 스퍼터링 목표는 정밀 CNC 가공, 효과적인 슬리브 본딩 및 전통적인 기존 캐스팅 솔루션을 포함한 다양한 고급 제조 기술에 의해
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블레이크 네일 star star star star star
받은 상품의 품질은 매우 양호하며 피해는 발견되지 않았습니다. 우리는 매우 만족스럽고 다음에 다시 협력하기를 희망합니다!
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