우리의 일련의 품질 표준은 우리의 끊임없는 추구를 지원합니다. 효율적인 구리 스퍼터링 대상, 신뢰할 수있는 구리 스퍼터링 대상, 슬롯 형 도파관 튜브 안정적인 성능과 따뜻한 서비스. 고객 요구 사항을 충족하고 초과하는 것은 우리의 품질에 대한 우리의 약속입니다.저렴한 구리 스퍼터링 목표 그리고 서비스. 우리는 기술적 이점과 건전한 산업 시스템, 고급, 혁신적인 관리 및 전용 전문 팀의 활발한 프로모션을 보유하고 있습니다. 우리의 비즈니스 철학은 다음과 같습니다. '우수성 추구, 손에 든다', Advanced Management는 회사의 기초입니다. 이 회사는 혁신 감각을 불러 일으키고 시장 지향적 수단으로 최적화 개념을 소개합니다. 우리는 과학과 기술의 진보와 시장 법칙을 파악하고, 관리 시스템과 제품 및 산업의 구조를 지속적으로 최적화하며, 새로운 개발 전략의 구현에서 지속적으로 새로운 초월을 달성합니다. 우리는 고객과 긴밀히 협력하여 자신의 요구를 충족시키는 맞춤형 솔루션을 개발합니다. 우리는 업계에서 수년간의 경험을 바탕으로 우수성으로 명성을 얻었습니다.
  • 로타리 구리 목표
    회전식 또는 원통형 스퍼터링 대상으로도 알려진 회전 구리 표적은 스퍼터링 공정의 균일 성과 효율성을 향상시키기 위해 Magnetron Sputtering과 같은 특정 유형의 스퍼터링 시스템에서 사용됩니다. Fabmann의 로타리 스퍼터링 목표는 정밀 CNC 가공, 효과적인 슬리브 본딩 및 전통적인 기존 캐스팅 솔루션을 포함한 다양한 고급 제조 기술에 의해
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  • 평면 구리 대상
    평면 구리 표적은 얇은 구리 필름을 기판에 퇴적하기 위해 물리적 증기 증착 (PVD) 공정에 사용되는 평평한 디스크 형 또는 직사각형 스퍼터링 표적이며, 고 에너지 입자의 폭격하에 균일하고 고품질의 박막을 제조하는 데 결정적인 고 에너지 입자의 충격 하에서 원자를 안정적으로 방출 할 수있다. Fabmann은 반도체, 화학 증기 증착 (CVD) 및 광 응용
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Robert Behn star star star star star
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