우리의 고품질 구리 스퍼터링 대상, 구리 스퍼터링 대상 사양, 원형 가속도의 입자 가속기 고객에게 제공하는 것이 전 세계 고객을 만족시키기 위해 고품질과 고성능을 유지하기 위해 엄격한 검사를 받았습니다. 우리의배송 구리 스퍼터링 타겟 표준 또는 맞춤형으로 설계되었으며 전 세계적으로 고성능, 신뢰성 및 혁신으로 알려져 있습니다. 세상을 염두에두고, 우리는 인류에게 혜택을주고 인간 발전을 장려하는 이상을 취합니다. 우리 회사는이 기술을 기초로서의 경영진 인 지침으로 받아 들여서 고품질의 제품과 사용자에게 매우 효과적인 서비스를 제공합니다. 시장 점유율을 위해 경쟁하기 위해 복잡한 경쟁 환경에 직면하여 가격은 가장 직접적인 경쟁 수단이되었습니다. 우리는 항상 고객 중심이며 헌신과 전문성으로 고객의 신뢰를 이기고 유지합니다. 우리 회사는 디자이너, 장인, 프린터 및 전문 제품 관리자를 경험하여 더 나은 맞춤형 서비스를 제공했습니다. 우리는 최고의 고객 서비스를 제공하기 위해 노력합니다.
  • 평면 구리 대상
    평면 구리 표적은 얇은 구리 필름을 기판에 퇴적하기 위해 물리적 증기 증착 (PVD) 공정에 사용되는 평평한 디스크 형 또는 직사각형 스퍼터링 표적이며, 고 에너지 입자의 폭격하에 균일하고 고품질의 박막을 제조하는 데 결정적인 고 에너지 입자의 충격 하에서 원자를 안정적으로 방출 할 수있다. Fabmann은 반도체, 화학 증기 증착 (CVD) 및 광...
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  • 로타리 구리 목표
    회전식 또는 원통형 스퍼터링 대상으로도 알려진 회전 구리 표적은 스퍼터링 공정의 균일 성과 효율성을 향상시키기 위해 Magnetron Sputtering과 같은 특정 유형의 스퍼터링 시스템에서 사용됩니다. Fabmann의 로타리 스퍼터링 목표는 정밀 CNC 가공, 효과적인 슬리브 본딩 및 전통적인 기존 캐스팅 솔루션을 포함한 다양한 고급 제조 기술에...
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