우리는 항상 '과학과 기술은 인간 지향적이며 우수성 및 효율성 추구'의 기업 정신을 수행하여 고객에게 완벽한 품질을 제공합니다. 레이저 증착 구리 스퍼터링 대상, 스퍼터링 구리 재료, 중공 구리 도체 . 우리는 현대 기술을 사용하여 산업 기술 발전 및 산업 업그레이드를 촉진하고구리 스퍼터링 목표 공급 업체 산업. 우리는 혁신적인 사고와 미래 지향적 인 제품 개념을 준수하고 있습니다. 우리는 중간 및 장기 전략과 단기 계획을 결합하는 원칙을 준수하고 기업의 장기 개발 방향을 명확하게합니다. 우리는 직접적이고 효율적이며 빠른 비즈니스 커뮤니케이션 채널을 계속 통합하고 심화시킵니다. 우리의 고객에는 대기업에서 중소 기업에 이르기까지 모든 규모의 비즈니스가 포함됩니다. 우리의 전문가 팀은 각 고객의 고유 한 요구를 충족시키는 포괄적 인 솔루션을 제공하기 위해 노력하고 있습니다. 우리는 다양한 산업 분야의 다양한 고객과 협력합니다.
  • 로타리 구리 목표
    회전식 또는 원통형 스퍼터링 대상으로도 알려진 회전 구리 표적은 스퍼터링 공정의 균일 성과 효율성을 향상시키기 위해 Magnetron Sputtering과 같은 특정 유형의 스퍼터링 시스템에서 사용됩니다. Fabmann의 로타리 스퍼터링 목표는 정밀 CNC 가공, 효과적인 슬리브 본딩 및 전통적인 기존 캐스팅 솔루션을 포함한 다양한 고급 제조 기술에 의해
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  • 평면 구리 대상
    평면 구리 표적은 얇은 구리 필름을 기판에 퇴적하기 위해 물리적 증기 증착 (PVD) 공정에 사용되는 평평한 디스크 형 또는 직사각형 스퍼터링 표적이며, 고 에너지 입자의 폭격하에 균일하고 고품질의 박막을 제조하는 데 결정적인 고 에너지 입자의 충격 하에서 원자를 안정적으로 방출 할 수있다. Fabmann은 반도체, 화학 증기 증착 (CVD) 및 광 응용
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