우리 회사는 강력한 브랜드 인지도, 광고를 가지고 있으며, 우리는 우리 자신의 브랜드, 부가 가치를 형성합니다. 스퍼터링 구리 대상, 교정기 자석, 슬롯 형 도파관 튜브 매우 높습니다. 우리는 후원자로서 전문 및 기술 인력에 의존하고, 현대적인 생산 관리 모드를 채택하며, 우리의 제품은 신규 및 오래된 고객들에 의해 호평을받습니다. 우리는 고객에게 고품질을 계속 개발하고 제공 할 것입니다.구리 스퍼터링 목표의 사양 . 우리의 좋은 고객 관계 및 관리 메커니즘은 회사의 지속적인 개발을 촉진 할 것입니다. 이 회사는 품질, 다양성에 의한 개발로 생존을 위해 노력하며 세계적으로 유명한 기업이되기 위해 노력합니다. 우리 회사는 고객 피드백을 소중히 여기며이를 사용하여 제품 및 서비스를 개선합니다. 혁신과 지속적인 개선에 중점을두면 우리의 제품은 항상 각 시장의 최첨단에 있습니다. 우리는 곡선보다 앞서 나가고 업계의 리더가되기 위해 노력하고 있습니다. 우리는 혁신과 창의성의 문화를 가지고있어 고객에게 서비스를 제공 할 새롭고 더 나은 방법을 찾도록합니다.
  • 로타리 구리 목표
    회전식 또는 원통형 스퍼터링 대상으로도 알려진 회전 구리 표적은 스퍼터링 공정의 균일 성과 효율성을 향상시키기 위해 Magnetron Sputtering과 같은 특정 유형의 스퍼터링 시스템에서 사용됩니다. Fabmann의 로타리 스퍼터링 목표는 정밀 CNC 가공, 효과적인 슬리브 본딩 및 전통적인 기존 캐스팅 솔루션을 포함한 다양한 고급 제조 기술에 의해
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  • 평면 구리 대상
    평면 구리 표적은 얇은 구리 필름을 기판에 퇴적하기 위해 물리적 증기 증착 (PVD) 공정에 사용되는 평평한 디스크 형 또는 직사각형 스퍼터링 표적이며, 고 에너지 입자의 폭격하에 균일하고 고품질의 박막을 제조하는 데 결정적인 고 에너지 입자의 충격 하에서 원자를 안정적으로 방출 할 수있다. Fabmann은 반도체, 화학 증기 증착 (CVD) 및 광 응용
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