다각화 된 전략 개발의 배경 아래에서 그룹은 정밀 구리 스퍼터링 대상, 로타리 구리 목표, 스퍼터링을위한 구리 대상 산업. 우리는 윤리, 정직, 우수성 추구, 상생 협력의 개념을 고수하고 있으며, 모든 생계의 동료들과 함께 일하면서구리 스퍼터링 대상 판매 ! 우리 회사는 매번 어려움에 직면하고 역경의 기회를 찾습니다. 우리는 시장 경쟁으로 인해 제품의 품질을 저하시키지 않습니다. 우리는 항상 과학과 기술, 고객 중심적, 기고자 지향을 통해 사회에 새로운 가치를 창출하는 원칙을 준수합니다. 우리의 광범위한 제품 범위에는 다양한 소비재, 전자 제품, 기계 등이 포함됩니다. 우리 팀은 제품 소싱에서 물류 및 그 사이의 모든 것에 이르기까지 해당 분야의 전문가로 구성됩니다. 우리는 업계 최고의 전문 지식과 경험에 자부심을 가지고 있습니다.
  • 평면 구리 대상
    평면 구리 표적은 얇은 구리 필름을 기판에 퇴적하기 위해 물리적 증기 증착 (PVD) 공정에 사용되는 평평한 디스크 형 또는 직사각형 스퍼터링 표적이며, 고 에너지 입자의 폭격하에 균일하고 고품질의 박막을 제조하는 데 결정적인 고 에너지 입자의 충격 하에서 원자를 안정적으로 방출 할 수있다. Fabmann은 반도체, 화학 증기 증착 (CVD) 및 광 응용
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  • 로타리 구리 목표
    회전식 또는 원통형 스퍼터링 대상으로도 알려진 회전 구리 표적은 스퍼터링 공정의 균일 성과 효율성을 향상시키기 위해 Magnetron Sputtering과 같은 특정 유형의 스퍼터링 시스템에서 사용됩니다. Fabmann의 로타리 스퍼터링 목표는 정밀 CNC 가공, 효과적인 슬리브 본딩 및 전통적인 기존 캐스팅 솔루션을 포함한 다양한 고급 제조 기술에 의해
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