이 그룹은 문화적 포괄적 인 서비스 플랫폼을 구축하기 위해 노력하고 있습니다 이온 빔 증착을위한 구리 스퍼터링 표적, 진공 증착 구리 스퍼터링 대상, 전자 레인지-아세테이터-캐비티 가속기의 입자 가속기 핵심 비즈니스 형식으로. 우리, 잘하는 우리합금 스퍼터링 구리 스퍼터링 대상 , 항상 국가 정책의 속도를 따라 잡고 상황을 활용하십시오. 우리는 고객과 장기적이고 안정적이며 상호 유익한 관계를 구축했습니다. 우리 회사는 고품질의 전문 인재 팀 그룹을 모아 과학적, 기술적 성과가 실제 생산성에 빠르게 빠르게 들어 왔습니다. 유사한 제품과 비교할 때 당사 제품은 비용이 많이 드는 성능으로 인해 대다수의 소비자가 선호합니다. 우수성에 대한 우리의 헌신은 우리의 끊임없는 혁신 추구와 지속적인 개선에 반영됩니다. 우리 회사는 완전한 투명성으로 운영되며, 프로세스, 정책 및 관행에 대한 정보를 항상 공유하게되어 기쁩니다. 우리는 고객과 긴밀히 협력하여 고유 한 요구를 이해하고 개인화 된 솔루션을 제공합니다.
  • 로타리 구리 목표
    회전식 또는 원통형 스퍼터링 대상으로도 알려진 회전 구리 표적은 스퍼터링 공정의 균일 성과 효율성을 향상시키기 위해 Magnetron Sputtering과 같은 특정 유형의 스퍼터링 시스템에서 사용됩니다. Fabmann의 로타리 스퍼터링 목표는 정밀 CNC 가공, 효과적인 슬리브 본딩 및 전통적인 기존 캐스팅 솔루션을 포함한 다양한 고급 제조 기술에 의해
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  • 평면 구리 대상
    평면 구리 표적은 얇은 구리 필름을 기판에 퇴적하기 위해 물리적 증기 증착 (PVD) 공정에 사용되는 평평한 디스크 형 또는 직사각형 스퍼터링 표적이며, 고 에너지 입자의 폭격하에 균일하고 고품질의 박막을 제조하는 데 결정적인 고 에너지 입자의 충격 하에서 원자를 안정적으로 방출 할 수있다. Fabmann은 반도체, 화학 증기 증착 (CVD) 및 광 응용
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브렌다 스웬슨 star star star star star
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