우리 회사는 전문 제조업체입니다 구리 스퍼터링 대상의 치수, 광전자를위한 구리 스퍼터링 대상, 물리 증기 증착 구리 스퍼터링 목표 . 수년에 걸쳐 우수한 품질, 합리적인 가격, 아름다운 모양 및 완벽한 서비스를 통해 고객의 신뢰와 칭찬을 받았으며 제품은 전국에 잘 판매됩니다. 우리는 성공적인 경험에서 끊임없이 배우고 있습니다.오래 지속되는 구리 스퍼터링 목표 산업. 우리는 고객에게 고품질 제품을 제공하는 데 큰 역할을합니다. 우리 회사가 설립 된 이래, 비즈니스 규모는 특히 최근 몇 년 동안 우리 회사의 빠른 발전으로 빠르게 성장하고 있습니다. 우리는 산업 레이아웃을 최적화하고 브랜드 가치를 향상시키기 위해 일련의 혁신적인 조치를 채택 할 것입니다. 우리 회사는 노력을 통해 개발 잠재력이 뛰어난 국제 및 현대 기업으로 성장했습니다. 우리는 환경과 지속 가능한 비즈니스 관행을 보존하겠다는 약속이 있습니다. 우리는 모든 규모의 비즈니스에 비용 효율적인 솔루션을 제공 한 입증 된 실적을 보유하고 있습니다.
  • 로타리 구리 목표
    회전식 또는 원통형 스퍼터링 대상으로도 알려진 회전 구리 표적은 스퍼터링 공정의 균일 성과 효율성을 향상시키기 위해 Magnetron Sputtering과 같은 특정 유형의 스퍼터링 시스템에서 사용됩니다. Fabmann의 로타리 스퍼터링 목표는 정밀 CNC 가공, 효과적인 슬리브 본딩 및 전통적인 기존 캐스팅 솔루션을 포함한 다양한 고급 제조 기술에 의해
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  • 평면 구리 대상
    평면 구리 표적은 얇은 구리 필름을 기판에 퇴적하기 위해 물리적 증기 증착 (PVD) 공정에 사용되는 평평한 디스크 형 또는 직사각형 스퍼터링 표적이며, 고 에너지 입자의 폭격하에 균일하고 고품질의 박막을 제조하는 데 결정적인 고 에너지 입자의 충격 하에서 원자를 안정적으로 방출 할 수있다. Fabmann은 반도체, 화학 증기 증착 (CVD) 및 광 응용
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빈센트 헤이튼 star star star star star
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게리 프리먼 star star star star star
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베티 포터프 star star star star star
나는 전에 그것을 한 번 구입했고 경험이 매우 좋았 으므로이 공급 업체를 다시 선택했습니다.
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