우리의 선형 캐비티 아카이터 캐비티 아카티 레이터-캐비티 가속기의 입자 가속기, 트럭 애플리케이션을위한 전자석, 고급 입자 가속기 가격 성능, 경쟁 우위 및 제품 품질의 지속적인 안정성을 갖습니다. 따라서 제품을 선택하는 것이 현명한 선택입니다. 우리는 항상 효율적인 관리 및 엄격한 생산 표준을 따르므로 일류 품질을 생산합니다.상호 운용성 구리 스퍼터링 타겟 . 우리는 시장 지향 및 기술 기반 비즈니스 운영 모델을 준수하고 지속적인 개선 및 시장 확장의 비즈니스 전략을 구현하며 지속적인 선구적인 태도로 기업의 영광을 환영합니다. 우리 회사는 '품질에 의한 생존, 경영진의 이익'이라는 개념을 준수하며 첨단 기술 및 첨단 제품을 지속적으로 개발하므로 사용자가 깊이 신뢰합니다. 우리 회사는 전문 기술, 우수한 장비 및 완벽한 사전 판매 및 사후 서비스를 통해 필요한 품질 표준에 필요한 기술 상담 및 제품을 고객에게 제공 할 것입니다. 이 회사는 직원에게 우수한 작업 환경과 인센티브 메커니즘을 제공하고 직원 교육 시스템 및 경력 개발 채널을 개선하여 직원과 회사가 함께 진행하고 성장할 수 있도록합니다. 우리의 제조 공정은 고속 생산 및 운영 효율성을 위해 설계되었습니다. 우리 팀은 고객에게 최고의 솔루션을 제공하기 위해 최선을 다하는 숙련 된 전문가로 구성되어 있습니다.
  • 로타리 구리 목표
    회전식 또는 원통형 스퍼터링 대상으로도 알려진 회전 구리 표적은 스퍼터링 공정의 균일 성과 효율성을 향상시키기 위해 Magnetron Sputtering과 같은 특정 유형의 스퍼터링 시스템에서 사용됩니다. Fabmann의 로타리 스퍼터링 목표는 정밀 CNC 가공, 효과적인 슬리브 본딩 및 전통적인 기존 캐스팅 솔루션을 포함한 다양한 고급 제조 기술에 의해
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  • 평면 구리 대상
    평면 구리 표적은 얇은 구리 필름을 기판에 퇴적하기 위해 물리적 증기 증착 (PVD) 공정에 사용되는 평평한 디스크 형 또는 직사각형 스퍼터링 표적이며, 고 에너지 입자의 폭격하에 균일하고 고품질의 박막을 제조하는 데 결정적인 고 에너지 입자의 충격 하에서 원자를 안정적으로 방출 할 수있다. Fabmann은 반도체, 화학 증기 증착 (CVD) 및 광 응용
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Lyn Saenz star star star star star
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