우리 회사는 과학 연구, 설계, 제조 및 판매를 통합하며 구리선, 디스플레이 산업의 구리 스퍼터링 대상, 선형 가속기 산업. 우리는 핵심으로 무결성과 윤리를 가진 특징적인 기업 문화를 실천하고 세계적 수준의 제공 업체를 구축하기 위해 노력합니다.RF 스퍼터링을위한 구리 스퍼터링 대상 . 우리 회사는 우리 자신의 브랜드로 국내 시장을 차지하고 국제 시장으로갑니다. 우리는 동시 R & D, 활성 개발 및 제품 제조를 통합하는 포괄적 인 서비스를 제공합니다. 지속 가능성에 대한 우리의 약속에는 폐기물 감소, 자원 보존 및 지속 가능한 농업 관행 지원이 포함됩니다. 우리 회사는 환경 지속 가능성과 보존에 대한 우리의 헌신에 자부심을 가지고 있습니다. 우리의 생산 공정은 혁신적이고 최첨단이므로 제품 품질과 신뢰성을 보장합니다. 우리는 전 세계적으로 제품을 빠르고 효율적으로 제공합니다.
  • 로타리 구리 목표
    회전식 또는 원통형 스퍼터링 대상으로도 알려진 회전 구리 표적은 스퍼터링 공정의 균일 성과 효율성을 향상시키기 위해 Magnetron Sputtering과 같은 특정 유형의 스퍼터링 시스템에서 사용됩니다. Fabmann의 로타리 스퍼터링 목표는 정밀 CNC 가공, 효과적인 슬리브 본딩 및 전통적인 기존 캐스팅 솔루션을 포함한 다양한 고급 제조 기술에 의해
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  • 평면 구리 대상
    평면 구리 표적은 얇은 구리 필름을 기판에 퇴적하기 위해 물리적 증기 증착 (PVD) 공정에 사용되는 평평한 디스크 형 또는 직사각형 스퍼터링 표적이며, 고 에너지 입자의 폭격하에 균일하고 고품질의 박막을 제조하는 데 결정적인 고 에너지 입자의 충격 하에서 원자를 안정적으로 방출 할 수있다. Fabmann은 반도체, 화학 증기 증착 (CVD) 및 광 응용
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