우리의 용접 도구를위한 전자석, 검사 구리 스퍼터링 대상, 펠레 트론의 입자 가속기 품질, 정직, 기술 및 끈기를 기반으로합니다. 우리는 다양한 개발을 위해 열심히 노력하고 있습니다취급용 구리 스퍼터링 타겟 광범위한 시장 전망과 시장 경쟁력을 갖춘 제품과 유익한 결과를 얻었습니다. 우리는 품질, 혁신 및 고객 서비스가 경쟁 업체와 분리되어 업계의 정점에 우리를 배치한다고 믿습니다. 그리고 우리는 고객으로부터 아주 좋은 의견을 얻었습니다. 혁신적인 디자인은 독립적 인 제품 개발 능력을 향상시키는 기본적인 방법입니다. 개방형 혁신적인 R & D 시스템을 구축함으로써 회사는 제품 처리에 중점을두고 제조 플랫폼 만 구축 할 수 있습니다. 우리 회사는 고객 만족과 충성도를 보장하기 위해 품질 관리 및 안전에 중점을 둡니다. 우리는 고객에게 우리와 함께 일할 때 최고의 경험을 제공하기 위해 노력하고 있습니다. 우리는 업계의 우수성으로 강력한 명성을 쌓게 된 것을 자랑스럽게 생각합니다.
  • 로타리 구리 목표
    회전식 또는 원통형 스퍼터링 대상으로도 알려진 회전 구리 표적은 스퍼터링 공정의 균일 성과 효율성을 향상시키기 위해 Magnetron Sputtering과 같은 특정 유형의 스퍼터링 시스템에서 사용됩니다. Fabmann의 로타리 스퍼터링 목표는 정밀 CNC 가공, 효과적인 슬리브 본딩 및 전통적인 기존 캐스팅 솔루션을 포함한 다양한 고급 제조 기술에 의해
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  • 평면 구리 대상
    평면 구리 표적은 얇은 구리 필름을 기판에 퇴적하기 위해 물리적 증기 증착 (PVD) 공정에 사용되는 평평한 디스크 형 또는 직사각형 스퍼터링 표적이며, 고 에너지 입자의 폭격하에 균일하고 고품질의 박막을 제조하는 데 결정적인 고 에너지 입자의 충격 하에서 원자를 안정적으로 방출 할 수있다. Fabmann은 반도체, 화학 증기 증착 (CVD) 및 광 응용
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모리스 윌슨 star star star star star
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